La nueva generación de fotomáscaras EUV, compatibles con litografía de alta apertura numérica, permite resolver patrones más finos para semiconductores lógicos de última tecnología. Optimización de patrones para litografía avanzada El fabricante japonés Dai Nippon Printing (DNP) ha logrado un hito en el desarrollo de fotomáscaras destinadas a semiconductores lógicos más allá de la generación […]